鍍膜機主要用于鍍膜,主要有感應蒸發鍍膜和磁控濺射鍍膜兩大類,對于感應蒸發鍍膜機,通常目標被加熱以原子團或離子的形式蒸發表面成分。
厚度均勻性主要取決于:
1、基片表面溫度;
2、蒸發功率,速率;
3、真空度;
4、鍍膜時間。
真空鍍膜是在真空下應用不同方法在柔性基體上實現連續鍍膜的一種技術。它涵蓋真空獲得、機電控制、高精傳動和表面分析等多方面內容。它的操作關鍵是,先要保障鍍膜的質量,在這個前提下,再提高卷繞速率、控制鍍膜穩定性及實施在線監控。卷對卷技術成本低、易操作、與柔性基底相容、生產率高及可連續鍍多層膜等優點。